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高純度碳化硅生長原料合成技術(shù)

文章出處:粉體網(wǎng)網(wǎng)責(zé)任編輯:作者:山川人氣:-發(fā)表時(shí)間:2022-03-14 15:40:00【

生長SiC單晶用的SiC粉體純度要求很高,其中雜質(zhì)含量應(yīng)至少低于0.001%。在眾多SiC粉合成方法中,氣相法通過控制氣源中的雜質(zhì)含量可以獲得純度較高的SiC粉體;液相法中只有溶膠-凝膠法可以合成純度滿足單晶生長需要的SiC粉體;固相法中的改進(jìn)自蔓延高溫合成法將固態(tài)的Si源和C源作為原料,使其在1400~2000℃的高溫下持續(xù)反應(yīng),最后得到高純SiC粉體,是目前使用范圍最廣,合成工藝最成熟的SiC粉體的制備方法。

天岳先進(jìn)使用的高純碳化硅是將高純硅粉和高純碳粉按工藝配方均勻混合,在2000℃以上的高溫條件下,于反應(yīng)腔室內(nèi)通過特定反應(yīng)工藝,去除反應(yīng)環(huán)境中殘余的、反應(yīng)微粉表面吸附的痕量雜質(zhì),使硅粉和碳粉按照既定化學(xué)計(jì)量比反應(yīng)合成特定晶型和顆粒度的碳化硅顆粒。再經(jīng)過破碎、篩分、清洗等工序,制得滿足晶體生長要求的高純度碳化硅粉原料。

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