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碳化硅密度對(duì)光學(xué)鏡面加工質(zhì)量的影響

文章出處:粉體圈網(wǎng)責(zé)任編輯:作者:粉體圈人氣:-發(fā)表時(shí)間:2022-01-10 08:46:00【

曾有科學(xué)家研究過密度對(duì)對(duì)光學(xué)鏡面加工質(zhì)量的影響,初步研究結(jié)果所示,在相同加工工藝條件下,碳化硅陶瓷密度對(duì)光學(xué)鏡面加工質(zhì)量確實(shí)有一定影響。當(dāng)采用一定粒度的金剛石拋光液對(duì)碳化硅陶瓷試樣進(jìn)行光學(xué)鏡面加工時(shí),低密度的碳化硅陶瓷光學(xué)鏡面加工后表面粗糙度較高,高密度的碳化硅陶瓷光學(xué)鏡面加工后表面粗糙度較低。

通過光學(xué)顯微鏡觀察,碳化硅陶瓷光學(xué)鏡面加工后表面缺陷主要表現(xiàn)為氣孔或缺陷,密度較高的碳化硅陶瓷試樣光學(xué)鏡面加工后,表面氣孔或缺陷更少,表面質(zhì)量更好。另外,降低磨粒尺寸有利于表面質(zhì)量的提高。

如上所述,碳化硅陶瓷密度對(duì)光學(xué)鏡面加工質(zhì)量有一定影響,在一定密度范圍內(nèi)(3.09~3.13g·cm³),光學(xué)鏡面加工質(zhì)量差別不大,若進(jìn)一步改善加工工藝,采用粒度更小的拋光液對(duì)碳化硅陶瓷試樣進(jìn)行光學(xué)鏡面加工后,均可得到較好的表面質(zhì)量。這說明,當(dāng)碳化硅陶瓷密度達(dá)到一定高度時(shí),密度對(duì)光學(xué)鏡面加工質(zhì)量的影響可通過光學(xué)鏡面加工工藝的優(yōu)化而減小或消除,即影響碳化硅陶瓷光學(xué)鏡面加工質(zhì)量的主要因素表現(xiàn)為加工工藝參數(shù),而密度對(duì)光學(xué)鏡面加工質(zhì)量的影響則可以忽略。

因此綜合來看,為使SiC材料具有超光滑表面以滿足光學(xué)應(yīng)用要求,目前常用的解決辦法主要是:對(duì)SiC材料進(jìn)行表面改性,其方式為在SiC鏡體光學(xué)表面鍍致密化涂層,然后對(duì)涂層進(jìn)行拋光。

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